改进的SIR宽阻带微带带通滤波器设计

利用一种改进SIR谐振器设计交叉耦合微带带通滤波器,实现对滤波器谐波响应的进一步抑制。在此谐振器内部引入SIR谐波抑制结构,并给出了宽阻带滤波器的仿真结果。该滤波器具有较宽的阻带特性,从f0到2.8f0间的抑制约为30 dB以上;从2.8f0到5.3f0间的抑制约为20 dB以上。这种简单的谐波抑制结构既不改变原有滤波器的结构,又不需要更高精度的制作工艺,具有较强的实用性。     

浅析政治文明理论

着重分析政治文明和社会主义政治文明的概念。指出物质文明、政治文明和精神文明的关系为 :三者既是并列的又是相互关联的。物质文明是政治文明和精神文明的基础 ;精神文明反作用于物质文明 ;政治文明是物质文明和精神文明的可靠保证。进而对如何加强社会主义政治文明建设提出了自己的见解。     

全语言思路对大学英语教学的启示

全语言思路是国外语言教学界颇有影响的一种教学理念,上世纪被介绍到我国,但是在大学英语教学方面实践较少。笔者通过对国内外有关文献的综述,给读者介绍了这一思路的基本观点和教学原则,并结合自身的体会,对目前争论激烈的大学英语教学改革提出了一些建议。     

城市防空中需掩护目标的重要性层次分析

城市防空中 ,需要掩护的重要目标多 ,分布范围广 ,必须将众多需要保卫的目标按其重要程度进行分类和排序 ,以便科学部署防空力量 ,提高城市防空综合效益。以目标价值作为衡量各种目标重要性的基本尺度 ,给出了目标价值的层次结构模型和数值计算方法     

基于动态规划的检测前跟踪算法中的目标鉴别方法

基于动态规划的TBD算法是检测微弱目标的有效方法,但在多帧积累中的动态规划处理会导致目标和强噪声的扩散进而产生较多的虚警.提出了一种利用轨迹特征进行目标鉴别的新方法.该方法利用噪声引起虚警在轨迹上具有很强的随机性这一特点,基于多阶方向直方统计进行目标鉴别.另外,还提出了一种局部极大值法和方向直方统计法级联的目标鉴别方案.仿真结果表明,方向直方统计法在消除噪声引起的虚警和保留真实目标方面都有很好的效果.而新的级联鉴别方案对于噪声引起的虚警和目标扩散引起的虚警都有很好的鉴别效果.     

MARK XIIA Mode 5系统仿真及抗干扰性能分析

Mark XIIA Mode 5是美军及北约盟军用以提高态势感知能力的新型敌我识别系统。以其为研究对象,首先分析了它所应用的关键技术,如RS纠错编码、软扩频和MSK调制等新技术;其次根据所应用的关键技术对系统进行了模型构建,并以Matlab为仿真平台进行了仿真,得出了询问/应答信号的时域波形及频谱;最后,重点对系统的抗干扰性能进行了分析,分别得出了MSK解调后、解扩后和RS解码后的误码率曲线,可以看出Mark XIIA Mode 5具有很强的抗干扰性能。     

海上机动目标监视任务过程及建模方法研究

在信息化条件下的现代战争中,海上机动目标情报的获取成为分析判断现代战争战场态势的重要依据。由于卫星侦察具有侦察范围广、侦察时间长、定位精度高、不易被攻击等特点,海洋监视卫星成为海上情报侦察的有效手段。目前发展的海洋监视卫星主要包括电子侦察卫星和成像侦察卫星,对海上机动目标的监视也主要通过电子及成像侦察卫星的配合来完成。重点研究了电子、成像侦察卫星、地面信息处理系统、地面接收站在海上机动目标监视任务中的联合工作模式。     

基于Richardson外推法的CFD离散误差分析

为研究数值模拟中网格类型及网格尺度变化对离散误差产生的影响,对NACA2412三维翼型在0°、4°、8°、12°攻角下进行了计算流体力学(CFD)仿真,得到了对应条件下的升力系数及阻力系数,利用Richardson外推法研究多套连续变化的结构网格及非结构网格数值解的空间离散误差,并结合网格收敛指标(GCI)法对误差进行...     

基于图分割的机械系统概念模块划分

为更好地实现机械系统的模块化设计,在基于功能-行为-概念结构(function-behavior-conceptualstructure,FBCS)的产品概念设计过程中引入面向产品概念要素的图分割聚类算法,建立了一种面向FBCS的产品概念模块划分方法。以堆垛机推拉机构为例,分析了根据产品的总体目标特征,进行产品功能、行为、概念结构求解与功能分解迭代的产品概念设计分解方法。为描述概念产品,提出黑箱法和IDEF0功能描述方法相结合的概念产品建模方法,以建立产品子功能-概念结构模型。在此基础上,建立了产品概念要素(功能、行为、概念结构、接口)的相关关系分析方法,并引入图分割聚类算法进行产品概念要素聚合,以实现产品概念模块的划分。推拉机构的概念模块划分证明该方法是可行和有效的。     

磁控溅射制备SmCo薄膜的工艺及磁性研究

用直流磁控溅射方法制备了SmCo薄膜,通过正交设计实验考察了工艺因素对薄膜沉积速率的影响规律。研究结果表明,影响薄膜沉积速率的主要因素是溅射功率,其次为靶基距,在0.5～2.0Pa的压强范围内,Ar气压强的大小对溅射速率的影响很小。X-射线衍射结果表明:制备态的SmCo薄膜为非晶结构,500℃真空热处理后,薄膜中出现少量的微晶SmCo5化合物。磁性能测试表明:制备态SmCo薄膜的矫顽力随薄膜厚度的增加而显著下降;真空热处理过程中,薄膜结构缺陷及成分起伏减少,薄膜的矫顽力和饱和磁场强度显著下降,初始磁导率和饱和磁化强度显著增加。