质谱技术在火灾物证鉴定中的应用

随着火灾原因的多样化、复杂化，应用准确、高效的现代化仪器分析的方法鉴定火灾原因日益重要。简述了质谱相关技术，如气相色谱／质谱技术（GC／MS），串联质谱技术（MS／MS）等在火灾物证鉴定中的应用。     

气相色谱法测定农药异丙威

研究建立了气相色谱测定农药异丙威的方法。使用大口径石英毛细管柱分离、氢火焰离子化检测器检测、内标法定量测定了农药异丙威的含量。方法灵敏、简便、快速，可操作性强，测定结果准确可靠；适用于异丙威原药、异丙威烟剂含量的测定。     

化学毒剂相关化合物的液相色谱－质谱分析

综述了1990年以来采用液相色谱－质谱联用技术（LC－MS）分析化学毒剂相关化合物的应用现状和发展趋势。     

化学气相沉积碳化硅超光滑抛光机理与表面粗糙度影响因素

为实现化学气相沉积碳化硅(CVD SiC)的超光滑抛光,采用纳米划痕试验研究了化学气相沉积碳化硅脆塑转变的临界载荷,根据单颗磨粒受力对其抛光机理进行了分析,并从材料特性、工艺参数以及抛光液pH值三个方面对其表面粗糙度影响因素进行了系统的试验研究.研究结果表明:化学气相沉积碳化硅的稳定抛光过程是磨粒对碳化硅表面的塑性域划痕过程;CVD SiC的晶粒不均匀与表面高点会降低晟终所能达到的表面质量;表面粗糙度在一定范围内随磨粒粒度增加呈近似线性增长,随抛光模硬度的增加而增长;抛光压强对表面粗糙度的影响规律与抛光模的变形行为相关,当抛光模处于弹性或弹塑性变形阶段时,表面粗糙度随抛光压强的增加呈小幅增长,而当抛光模包含塑性变形之后,表面粗糙度基本与抛光压强无关;此外,抛光速度和抛光液pH值对表面粗糙度的影响不大.研究结论为CVD SiC超光滑抛光的工艺参数优化选择提供了定量的试验依据.     

水样中原苏联VX及其降解产物的提取与分析

采用外标定量法对水样中原苏联VX及其降解产物的提取与分析方法进行了研究，建立了水样中原苏联VX及其降解产物的提与分析方法，方法灵敏度为0．1-1μg/ml，检测限为0．1－1ng,变异系数均小于10％。