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聚二甲基硅烷高压合成聚碳硅烷的组成与结构分析
作者姓名:程祥珍  肖加余  谢征芳  宋永才  王应德
作者单位:国防科技大学,航天与材料工程学院,湖南,长沙,410073;国防科技大学,航天与材料工程学院,湖南,长沙,410073;国防科技大学,航天与材料工程学院,湖南,长沙,410073;国防科技大学,航天与材料工程学院,湖南,长沙,410073;国防科技大学,航天与材料工程学院,湖南,长沙,410073
基金项目:国家自然科学基金资助项目(50082007)
摘    要:以聚二甲基硅烷(PDMS)为原料,在高压釜内450℃下反应6h,制备了聚碳硅烷(PCS)先驱体。对其组成及结构进行了表征,推测了PCS的大致结构模型。研究表明,PCS分子包含Si CH3、Si CH2 Si、Si H组成的SiC4、SiC3H等结构单元,实验式为SiC1.87H7.13O0.03。与常压高温裂解制备的软化点相近的PCS相比,二者的元素组成基本一致,高压合成的PCS具有较高的分子量和硅氢含量,但支化度略高。

关 键 词:聚二甲基硅烷  高压  聚碳硅烷  组成  结构
文章编号:1001-2486(2005)02-0020-04
收稿时间:2004-10-31
修稿时间:2004-10-31
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