| 用 Gd2O3 做介质缓冲层制作金属包覆光波导偏振器 |
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| 引用本文： | 冯莹,季家镕.用 Gd2O3 做介质缓冲层制作金属包覆光波导偏振器[J].国防科技大学学报,1996,18(3):138-141. |
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| 作者姓名： | 冯莹 季家镕 |
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| 作者单位： | 国防科技大学应用物理系 |
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| 摘 要： | 首次报道了采用Ｇｄ２Ｏ３薄膜作介质缓冲层制作金属包覆Ｔｉ：ＬｉＮｂＯ３光波导偏振器。通过对理论模型的计算选取合适的介质缓冲层厚度，给出了理论计算和实验结果。测试结果表明，我们实际制作的Ｇｄ２Ｏ３／Ａｌ包覆Ｔｉ：ＬｉＮｂＯ３偏振器的偏振消光比＞３５ｄＢ。
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| 关 键 词： | 光波导偏振器，缓冲层，金属包覆 |
| 收稿时间： | 1996/2/23 0:00:00 |
Metal Cladding Optical Waveguide Polarizer Using Gd2O3 As a Buffer Layer |
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| Feng Ying and Ji Jiarong.Metal Cladding Optical Waveguide Polarizer Using Gd2O3 As a Buffer Layer[J].Journal of National University of Defense Technology,1996,18(3):138-141. |
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| Authors: | Feng Ying and Ji Jiarong |
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| Abstract: | The first published report of using Gd2O3 as a buffer layer to make integrated optical polarizers on Ti: LiNbO3 is presented. The calculating and experimental results are given. The extinction ratio of polarizer>35dB. |
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| Keywords: | optical waveguide polarizer buffer layer metal cladding |
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