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实验条件对纳米多孔二氧化硅薄膜性能的影响
引用本文:王娟,张长瑞,冯坚.实验条件对纳米多孔二氧化硅薄膜性能的影响[J].国防科技大学学报,2005,27(3):16-19 ,29.
作者姓名:王娟  张长瑞  冯坚
作者单位:国防科技大学,航天与材料工程学院,湖南,长沙,410073
基金项目:国家部委重点资助项目(41312040307)
摘    要:以正硅酸乙酯(TEOS)为先驱体,采用酸/碱两步溶胶—凝胶法,结合旋转涂胶和超临界干燥等工艺在硅片上制备了SiO2薄膜。XRD和AFM表明该SiO2薄膜为无定形态,具有多孔网络结构,表面均匀、平整,其SiO2粒子和孔隙的直径为30~40nm。利用椭偏仪测量了薄膜的厚度和折射率,薄膜的厚度为300~1100nm,折射率为1.13~1.23,孔隙率为50%~70%,介电常数为1.9~2.4。SiO2薄膜的厚度随溶剂异丙醇(IPA)用量的减少、催化剂NH4OH用量的增加、SiO2溶胶粘度的增大和旋转涂胶速度的降低而增大;介电常数随NH4OH用量和SiO2溶胶粘度的增加而降低,IPA用量和旋转速度对SiO2薄膜的介电常数影响较小。

关 键 词:纳米多孔SiO2薄膜  溶胶—凝胶  低介电常数
文章编号:1001-2486(2005)03-0016-04
收稿时间:2004/11/5 0:00:00
修稿时间:2004年11月5日

Effects of Experimental Conditions on the Properties of Nanoporous Silica Films
WANG Juan,ZHANG Changrui and FENG Jian.Effects of Experimental Conditions on the Properties of Nanoporous Silica Films[J].Journal of National University of Defense Technology,2005,27(3):16-19 ,29.
Authors:WANG Juan  ZHANG Changrui and FENG Jian
Institution:College of Aerospace and Materials Engineering, National Univ. of Defense Technology, Changsha 410073, China;College of Aerospace and Materials Engineering, National Univ. of Defense Technology, Changsha 410073, China;College of Aerospace and Materials Engineering, National Univ. of Defense Technology, Changsha 410073, China
Abstract:
Keywords:nanoporous silica film  sol-gel  low dielectric constant
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