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25nm鱼鳍型场效应晶体管中单粒子瞬态的工艺参数相关性
引用本文:李达维,秦军瑞,陈书明.25nm鱼鳍型场效应晶体管中单粒子瞬态的工艺参数相关性[J].国防科技大学学报,2012,34(5):127-131.
作者姓名:李达维  秦军瑞  陈书明
作者单位:国防科技大学计算机学院,湖南长沙,410073
基金项目:国家自然科学基金资助项目
摘    要:基于TCAD(Technology Computer-Aided Design)3-D模拟,研究了25 nm鱼鳍型场效应晶体管(Fin Field Effect Transistor,FinFET)中单粒子瞬态效应的工艺参数相关性。研究表明一些重要工艺参数的起伏会对电荷收集产生显著影响,从而影响到电路中传播的SET(Single Event Transient)脉冲宽度。对于最佳工艺拐角,离子轰击后收集的电荷量可以降低约38%,而在最坏工艺拐角下,收集的电荷量则会增加79%。这些结论对FinFET工艺下的SET减缓及抗辐射加固设计提供了一种新的思路。

关 键 词:鱼鳍型场效应晶体管  单粒子效应  工艺参数相关性  电荷收集
收稿时间:2012/4/11 0:00:00

The dependence of process parameters on single event transient in 25 nm FinFET
LI Dawei,QIN Junrui and CHEN Shuming.The dependence of process parameters on single event transient in 25 nm FinFET[J].Journal of National University of Defense Technology,2012,34(5):127-131.
Authors:LI Dawei  QIN Junrui and CHEN Shuming
Institution:(College of Computer,National University of Defense Technology,Changsha 410073,China)
Abstract:
Keywords:FinFET (Fin Field Effect Transistor)  SEE (Single Event Effect)  process parameter  charge collection
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