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加电场减少等离子鞘套电子密度方案探讨
引用本文:杨书林,肖明.加电场减少等离子鞘套电子密度方案探讨[J].国防科技大学学报,1983(3):63-68.
作者姓名:杨书林  肖明
摘    要:高速飞行器重返大气层时,在其表面形成高温等离子体鞘套,它在某一个飞行高度范围内会引起飞行器与地面之间的通讯中断,即“再入通讯中断问题”。目前国外减缓中断的手段较多,然而各有利弊。本文从原理上探讨了加电场减少鞘套边界层内电子密度方案的可能性,以期作为一种较简单的克服再入通讯中断的物理手段。

收稿时间:1982/12/24 0:00:00

The Research of Problem about Diminishing the Electronic Density in the Plasma Sheath by Using Electric Fields
Yang Shulin and Xiao Ming.The Research of Problem about Diminishing the Electronic Density in the Plasma Sheath by Using Electric Fields[J].Journal of National University of Defense Technology,1983(3):63-68.
Authors:Yang Shulin and Xiao Ming
Abstract:
Keywords:
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