| 反应离子镀锡-铟氧化物薄膜 |
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| 引用本文： | 金昭廷,谢淑云,彭传才.反应离子镀锡-铟氧化物薄膜[J].国防科技大学学报,1982(2):65-69. |
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| 作者姓名： | 金昭廷 谢淑云 彭传才 |
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| 摘 要： | 本文着重阐述了离子镀锡——铟氧化物的原理,主要技术条件及其相互关系,最佳技术条件的选择与控制。还介绍了离子镀锡——铟氧化物的实验结果。
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| 收稿时间： | 1982/2/13 0:00:00 |
Reactive Ion-Plating Tin-Indium Oxide Thin Film |
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| Jin Zhaoting,Xie Shuyun and Peng Chuancai.Reactive Ion-Plating Tin-Indium Oxide Thin Film[J].Journal of National University of Defense Technology,1982(2):65-69. |
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| Authors: | Jin Zhaoting Xie Shuyun and Peng Chuancai |
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| Keywords: | |
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