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| Y-La-Si3N4陶瓷的高温力学性能及氧化特征 | |
| 引用本文： | 罗学涛,张长瑞.Y-La-Si3N4陶瓷的高温力学性能及氧化特征[J].国防科技,1997,18(4):61-65. |
| 作者姓名： | 罗学涛 张长瑞 |
| 作者单位： | 国防科技大学材料科学与应用化学系，国防科技大学材料科学与应用化学系，国防科技大学材料科学与应用化学系 长沙 410073，长沙 410073，长沙 410073 |
| 摘 要： | 研究了Y_2O_3和La_2O_3添加剂Si_3N_4陶瓷的高温力学性能和氧化行为。实验结果表明,其抗弯强度值可保持到1350℃,断裂韧性则随温度的升高而增加,到1350℃出现“峰”值;在120O～I350℃范围内,15mol％添加剂Si_3N_4的氧化符合抛物线规律,氧化过程主要由晶界添加剂离子和少量杂质离子的扩散控制。表面氧化产生的化合物导致表面裂纹使抗弯强度大大降低。 |
| 关 键 词： | 氮化硅 力学性能 氧化行为 |
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