| 活性屏离子渗硫层的制备及形貌结构研究 |
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| 引用本文： | 马世宁,胡春华.活性屏离子渗硫层的制备及形貌结构研究[J].装甲兵工程学院学报,2007,21(5):81-83. |
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| 作者姓名： | 马世宁 胡春华 |
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| 作者单位： | 1. 装甲兵工程学院,装备再制造技术国防科技重点实验室,北京,100072
2. 装甲兵工程学院,装备再制造技术国防科技重点实验室,北京,100072;装甲兵技术学院,机械工程系,长春,130117 |
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| 摘 要： | 对7A52铝合金及45钢表面活性屏离子渗硫层的制备及形貌结构进行了研究.通过工装使7A52铝合金及45钢试样在高频脉冲等离子扩渗炉中处于零电位,并置于接阴极的不锈钢网状活性屏中.在离子渗硫过程中,利用不锈钢网状活性屏上形成的硫化物溅射下来,沉积到7A52铝合金及45钢试样表面,从而形成离子渗硫层.SEM、EDS及XRD检测分析结果表明,活性屏离子渗硫技术不仅可以获得传统离子渗硫技术一样的处理效果,而且还细化了硫化物颗粒尺寸,较好地解决了传统离子渗硫技术出现的边缘效应、工件打弧和空心阴极效应等问题.活性屏离子渗硫技术不仅可在钢铁材料上制备离子渗硫层,还可在非钢铁材料上制备离子渗硫层,为解决非钢铁材料的减摩耐磨问题提供了一条新的途径.
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| 关 键 词： | 活性屏 离子渗硫 溅射 沉积 边缘效应 |
| 文章编号： | 1672-1497(2007)05-0081-03 |
| 修稿时间： | 2007年8月10日 |
Study on Morphologies, Structures and Preparations of Active Screen Ion Sulphurized Layers |
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| MA Shi-ning,HU Chun-hua.Study on Morphologies, Structures and Preparations of Active Screen Ion Sulphurized Layers[J].Journal of Armored Force Engineering Institute,2007,21(5):81-83. |
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| Authors: | MA Shi-ning HU Chun-hua |
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