| IBAD氮化钛中N/Ti对膜层性能影响研究 |
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| 引用本文： | 徐龙堂,谭俊,朱绍华.IBAD氮化钛中N/Ti对膜层性能影响研究[J].装甲兵工程学院学报,1997(1). |
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| 作者姓名： | 徐龙堂 谭俊 朱绍华 |
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| 作者单位： | 装甲兵工程学院工艺教研室!北京100072 |
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| 摘 要： | 研究了离子束辅助沉积(IBAD)制备氮化钛(TiN)重要参数氮钛到达比(N/Ti)对膜层性能的影响,并且采用俄歇谱分析(AES)、光电子谱分析(XPS)、X射线衍射分析(XRD)对膜层进行了相组成与成分分析,摸索了N/Ti对膜层的影响规律.
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| 关 键 词： | 离子束辅助沉积(IBAD) 氮化钛(TiN) |
Reserach of Relationship Between N/Ti and Property of IBAD TiN Film |
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| Xu Longtang Tan Jun Zhu Shaohua.Reserach of Relationship Between N/Ti and Property of IBAD TiN Film[J].Journal of Armored Force Engineering Institute,1997(1). |
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| Authors: | Xu Longtang Tan Jun Zhu Shaohua |
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| Institution: | Xu Longtang Tan Jun Zhu Shaohua |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Ion beam asisted deposition (IBAD) TiN |
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