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正负双波激励冲击响应谱数值分析 总被引:1,自引:0,他引:1
基于ANSYS软件,采用双波激励历程求解了单自由度系统的位移、速度和加速度响应,使用时间历程后处理器(POST26)的RESP命令生成冲击响应谱,并与德国舰艇建造规范(BV0430)的冲击输入谱进行比较。结果表明:双波激励历程的最大位移和最大加速度冲击响应谱与BV0430的冲击输入谱吻合较好,而最大速度冲击响应谱误差较大。由于最大速度响应对结构抗冲击设计影响很小,所以针对BV0430冲击输入谱采用双波激励历程对船体设备进行时域抗冲击验证计算是完全可行的。 相似文献
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装备保障仿真模型体系是装备保障仿真平台设计的重要。针对装备保障中的研究对象和主要特点,分析了装备保障仿真的主要,对装备保障仿真模型进行了功能上的分类,提出了面向任务的装备保障仿真模型体系结构,讨论了模型之间的相关性以及模型实现形式。最后,介绍了海上巡航任务下的舰船装备维修系统仿真实例。实例表明:面向任务的装备保障仿真模型体系从顶层界定了模型建设范围和,能够适应装备保障仿真需求。 相似文献
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理论分析与实验验证表明,纳米金刚石磨料磁流变抛光材料去除机理是塑性剪切去除.在KDMRF-1000F磁流变抛光机床上进行工艺实验,研究抛光轮与工件表面的间隙、抛光轮转速、磁场强度对峰值去除效率和表面粗糙度的影响.工艺实验表明,去除函数具有良好的稳定性和重复性,2.5h以内峰值去除效率稳定在±0.3%以内,体积去除效率稳定在±0.5%以内.直径202mm(有效口径95%)的HIP SiC平面镜采用子孔径拼接测量方法,经过磁流变粗抛(30h)和精抛(9h)后,面形误差PV值0.13μm,RMS值0.012μm,表面粗糙度RMS值2.439nm. 相似文献
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提出了一种光学零件磁流变加工的驻留时间计算方法.该算法以矩阵运算为基础,首先确定工件上各个控制节点的高度余量,并将磁流变抛光模对各控制节点的材料去除能力体现到去除矩阵中,然后利用非负最小二乘法求解驻留时间向量.采用该算法在自行研制的磁流变抛光机床上进行抛光实验,经过2次迭代加工后,有效口径为145mm的球面镜P-V值达到40.5nm(约为λ/15),RMS值达到5nm(约为λ/125),表面粗糙度Ra值达到0.57nm. 相似文献
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研究基于螺旋扫描路径的光学镜面磁流变抛光的算法与实现.该算法将去除函数矩阵转化成驻留时间解算的线性方程组的系数矩阵,并利用其为稀疏矩阵的特点来进行快速迭代计算,然后将求得的驻留时间分配到螺旋扫描路径上以求得整个路径上速度变化,从而控制磁流变抛光机床直线轴和转轴作插补运动.利用该算法在自研的KDMRF-200磁流变抛光机床上对-K9玻璃平面镜进行了两次迭代加工,面形均方根误差由初始的0.128λ加工到0.022λ,验证了该算法的正确性和实用性. 相似文献
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采用间氨苯酚为原料,以四氢吡喃(THP)作羟基保护剂,以醋酸酐作酰基保护剂和氨基单取代的专一选择剂,以溴乙烷作烷基化试剂,硫酸二甲酯作甲基化试剂,在原有最优化合成工艺条件下,经六步反应合成N-乙基间甲氧基苯胺,产率达到65.9%.经改进后的合成路线反应步骤虽有所增加,但收率提高了8.3%. 相似文献