长杆弹垂直侵彻横向运动板的数值分析

对钨合金长杆弹垂直侵彻横向运动钢板的偏转角变化规律进行了理论及仿真研究。采用刚体力学理论推导了刚体长杆弹侵彻横向运动钢板的偏转角公式。利用ANSYS/LS-DYNA有限元软件对RIGID及STEINBERG两种材料模型长杆弹垂直侵彻横向运动JOHNSON-COOK模型钢板进行了仿真,根据长杆弹头部和尾部横向相对运动规律,得到了长杆弹的偏转规律。仿真结果表明:板的横向运动速度越大,长杆弹偏转角越大,且偏转角在整个侵彻过程中一直保持增大的趋势。     

不均匀光照下的虹膜定位算法研究

虹膜定位是虹膜识别中的基础性环节。针对经典虹膜定位算法易受光照影响且速度慢的问题,分析不均匀光照对虹膜定位的影响,提出最小二乘法粗定位与微积分算法精定位相结合的虹膜定位方法：首先利用形态学灰度运算处理虹膜图像,对处理图像阈值化后提取并修复瞳孔区域,利用最小二乘法对瞳孔区域下部边界点进行内边缘粗略拟合;然后根据外边缘点存在区域的灰度梯度确定虹膜外边缘点,利用最小二乘法进行外边缘粗略拟合;最后利用微积分算法精确定位虹膜内外边缘。以中国科学院虹膜库CASIA（version 2.0）1 200幅虹膜图像做实验,平均耗费时间为4.38 s,定位成功率为98.3%。与经典的Daugman算法和Hough变换算法相比,所提出的算法对不同光照条件下的虹膜图像能更准确、快速地定位。     

态势评估中基于合同网的黑板模型研究

态势评估是对战场上战斗力量分配情况的评价过程。针对目前态势评估的局限性和面临的挑战,运用黑板模型和合同网理论研究态势评估问题。对当前态势评估黑板模型的主要工作进行比较,在此基础上引入合同网的思想,提出了基于合同网的态势评估黑板模型,并重点论述了该模型的结构和运行机制。该模型在一定程度上解决了黑板模型的不足,并且能更好地用于分布式信息融合环境。     

合成部队作战能力评估的全过程累积法及其实现

从更好体现相关基本军事观点和社会科学原理出发,对合成部队的作战过程、作战能力评估的目标与手段、作战能力的构成要素及其作用等基本军事问题进行了分析,据此指出了目前评估方法存在的问题及其根源。提出合成部队整体综合作战能力评估的全过程累积法,并建立了综合评估模型。建立了实现评估需要的单项能力累积指数模型、单项能力平均维持率模型和评估指标体系。     

装备研制中面向再制造的材料设计及评价

探讨了装备设计研制阶段面向再制造的装备材料设计概念,提出了面向再制造的装备材料设计的5个影响因素,即材料服役寿命、材料可恢复性、材料经济性、材料环保性、材料可分离性,并对每个因素进行了分析。在此基础上,建立了基于专家评价法的材料再制造性评价模型,并进行了案例验证,为面向装备再制造的材料设计及选择提供了一种选择思路及评价手段。     

构件技术在指控软件设计中的应用研究

基于构件的指控软件开发是提高指控软件生产率和质量的一种有效途径,它也是解决现存软件危机的必由之路。结合指控软件开发过程,对基于构件技术的软件开发方式应用进行了研究。实践表明本方法有助于提高软件产品质量及维护效率、缩短更新周期、降低开发成本。     

基于MVC的分布式作战应用框架研究

MVC作为一种经典的软件模式,在界面程序设计和B/S系统中得到了广泛应用.随着分布式技术的发展,MVC的含义和用途变得更加广泛,不仅可以用于组件的构造,也可用于分布式程序的设计.针对MVC模式和分布式作战应用的特点进行了深入分析,提出了一种基于MVC的分布式作战应用框架,在保持传统C/S架构优势的同时,增强了系统的可扩展性,实现了业务流程和逻辑计算的有效分离,为大型C/S作战应用系统的开发提供了一个有效的架构解决方案.     

无线传感器网络中基于统计异常的入侵检测

无线传感器网络与传统网络存在较大差异,传统入侵检测技术不能有效地应用于无线传感器网络.结合无线传感器网络的特点,提出一种基于统计异常的入侵检测.入侵检测为传感器节点在正常工作状态下的某些系统特征建立行为模式,并通过统计观测值对正常行为模式的偏离程度来判断是否存在入侵.理论分析及仿真实验表明,提出的入侵检测技术可有效检测入侵,检测算法简洁高效,利于节能,适用于供能紧张的无线传感器网络.     

高性能永磁交流伺服系统研究

重点介绍了永磁交流伺服系统的控制策略,位置检测和辨识、主电路和驱动技术等关键技术.在研究了其物理方程、转矩方程和等效电路的基础上,提出了永磁同步电机的数学模型.叙述了矢量控制的原理,构建了永磁同步电机交流伺服系统,并对上述电机模型,矢量控制方法及相关硬件设计进行了研究.     

纳米金刚石磨料磁流变抛光材料去除机理与工艺研究

理论分析与实验验证表明,纳米金刚石磨料磁流变抛光材料去除机理是塑性剪切去除.在KDMRF-1000F磁流变抛光机床上进行工艺实验,研究抛光轮与工件表面的间隙、抛光轮转速、磁场强度对峰值去除效率和表面粗糙度的影响.工艺实验表明,去除函数具有良好的稳定性和重复性,2.5h以内峰值去除效率稳定在±0.3%以内,体积去除效率稳定在±0.5%以内.直径202mm(有效口径95%)的HIP SiC平面镜采用子孔径拼接测量方法,经过磁流变粗抛(30h)和精抛(9h)后,面形误差PV值0.13μm,RMS值0.012μm,表面粗糙度RMS值2.439nm.