超高精度离子束抛光工具设计与性能分析

为了解决高精度光学修形问题,进行离子束抛光工具的设计与性能分析研究。通过开展离子束抛光工具设计方法的研究、聚焦离子光学系统结构设计和离子束流特性的分析,进行计算机仿真研究和中和器一体化设计;研制聚焦离子光学系统和中和器,并采用15mm和10mm的聚焦离子光学系统进行修形加工实验,将口径150mm的熔石英平面镜从初始面形误差RMS15.58nm修正到RMS0.79nm。结果证明了聚焦离子光学系统设计的有效性,一体化离子束抛光工具具有亚纳米精度的修形能力。     

新型手性离子液体的合成

将天然手性池化合物D（＋）-樟脑引入离子液体中,设计合成了新型手性功能化咪唑型离子液体,并采用微波辅助反应,极大的提高了反应效率。     

Si-N-C 陶瓷的组成、结构与其热稳定性…

本文研究了由聚硅氮烷(PSZ)和聚碳硅烷(PC)热解制得的三种陶瓷的组成、结构与特性。研究表明,PC热解到1250℃产生Si-C陶瓷,其结晶相是β-SiC微晶,PSZ在N_2或NH_3气氛中热解则分别产生Si-N-C与Si-N无定形陶瓷。这三种陶瓷在Ar_2气中1300℃到1500℃处理以研究其热稳定性。结果证明Si-c陶瓷从微晶变为β-SiC结晶态,Si-N陶瓷从无定形态变为α-Si_3N_4结晶并伴随着可观测到的重量损失而Si-N-C陶瓷维持其元素组成及β-SiC微晶态直到1500℃。     

氮离子注入印制板钻头试验研究

研究了氮离子注入印制板钻头后对基体材料的显微硬度的影响.在实际中比较了注入和未注入钻头的钻孔效果及钻头的磨损状况;并用AES的方法分析了氮离子注入后工件表面的元素分布情况,探讨了氮离子注入的强化机制.     

CL-20降感处理技术及在CMDB推进剂中的应用

为促进六硝基六氮杂异伍兹烷(CL-20)在推进剂中的应用,综述了 CL-20降感处理技术及其在改性双基(CM-DB)推进剂中应用的最新进展.结果表明,通过表面包覆降感技术、共晶降感技术和微纳米球形化降感技术均可有效制备出低感CL-20,但为提高低感CL-20的能量释放率,在表面包覆降感技术和共晶降感技术中应尽可能地选取...     

恒电量微扰法研究在含Cl-介质Ce3+对航空铝材的缓蚀作用

本文用恒电量微扰法研究了Ce3+对铝合金在0．1mol·L-1NaCl介质中的缓蚀机理及抗孔蚀性。结果表明：铝合金孔蚀诱导过程及其表面形成林转化膜过程具有相同的电化学模式,电化学腐蚀速度控制步骤取决于钝化膜（转化膜）／溶液界面过程。Ce3+对铝合金孔蚀的诱导期和发展期均有抑制作用,形成铈转化膜后,铝基表面阻抗大大提高,耐孔蚀性增强。     

跨越发展拓新“天”

2010年8月9日17时53分,新疆天业120万吨联合化工项目二期年产40万吨聚氯乙烯项目聚合无离子泵房储水罐开始注入合格的纯水,这标志着聚氯乙烯项目及配套工程建设迈出了重要一步。天业人在为企业快速发展欣喜不已的同时,永远忘不了从玻璃厂起步的情     

激光——等离子弧复合焊铝锂合金熔化过程的分析

为了研究激光-等离子弧复合焊熔化过程中的传热和流动特性,建立了针对1420铝锂合金的数值分析模型。在同时考虑表面张力、电磁力和热浮力作用的情况下,利用有限控制容积法求解该模型,得到熔池流场和温度场的数值解,从而直观地反映熔池形状的变化过程,并采用无量纲分析法对不同作用力对熔池传热和流动过程的影响进行定量化研究。分析结果表明：熔深的增长快于熔宽,因为熔深增加的主要机理是小孔效应,而熔宽增加的机理为对流传热作用;表面张力对熔池流动的影响最大,比电磁力的作用大1个数量级,比热浮力的作用大3个数量级;在熔化过程中,对流传热的作用大于热传导作用,心数最大值达7．6。     

活性屏离子渗硫层在40#油润滑条件下的摩擦学性能

应用活性屏离子渗硫技术,在CrMoCu合金铸铁表面制备出以FeS相为主的渗硫层。实验表明,在40#油润滑条件下,活性屏离子渗硫表面的摩擦因数比未渗表面大约降低了13%,与渗硫表面相近;体积磨损量比未渗表面减少了30%左右,与渗硫表面相似。由于活性屏离子渗硫层的主要成分为密排六方晶体结构的FeS,且其结构疏松多孔易于储存润滑油,因此具有良好的减摩、耐磨性能。