使用直接模拟法研究选择快中子屏蔽参数

使用蒙特卡罗直接模拟法模拟了300keV氘束流T（d,n）4He中子源发出的中子在球壳屏蔽体介质铁中的输运规律。分析了不同介质厚度的铁对中子的反射性质和吸收性质,这些解释和分析对快中子球壳屏蔽参数的选取具有重要价值。     

一种新型火炮自动机构的运动方程

基础构件转动的机构是火炮上的一种新机构。根据达朗贝尔原理和虚位移原理,本文推导了这种新型机构在工作构件影响下的运动微分方程,可以用来解决这类机构的运动学和动力学问题。     

静电放电对电子装置的危害机理分析与模型研究

本文介绍了静电放电(ESD)对电子装置的危害,分析了半导体器件受ESD影响而失效的机理,及ESD对电子设备形成干扰的途径,介绍并分析了六种ESD模型,即人体模型(HBM)、带电装置模型(CDM)、场感应模型(FIM)、机器模型(MM)、增强型场模型(FEM)或金属体模型(BMM)、电容耦合模型(CCM)。     

胶粘耐磨涂层的研制及其磨损机理分析

本文介绍了JNT9O系列涂层的研制过程及计算机辅助涂层配方优化方法,分析了影响胶粘耐磨涂层耐磨性的主要因素,并通过扫描电镜对粘涂层的结构形貌、磨损机理进行了研究,提出了提高涂层性能的途径和见解.     

机器人步行腿机构的动力分析

本文根据力的叠加原理,采用拆杆拆副法,对一平面闭式多杆步行腿机构进行了较为全面的动力分析,得出了一个运动循环内原动曲柄的输入力矩及各运动副处的约束反力线图,为该机构的驱动、控制及进一步的改型设计提供了必不可少的计算依据。线图分析表明:该机构节省能量,力学性能较好,有良好的应用前景。     

薄膜晶体管液晶显示器对空间光调制模式与偏振器方向的关系

薄膜晶体管液晶显示器TFT LCD(Thin Film TransistorLiquidCrystalDevice)是信息光学研究中一种非常重要的电寻址空间光调制器SLM(SpatialLightModulator)。实验中通过调整TFT LCD的起偏器或检偏器的方向,可以分别得到正像、边缘暗突出像、负像等,并结合具有双折射特性的线性扭曲液晶介质对线偏振光的调制理论,对此给出解释。     

战场数字化条件下的单兵数字化系统——“数字化战场与单兵数字化系统”系列论文之二

本文首先讨论了战场数字化条件下单兵数字化系统的概念和内涵，用Ｌａｎｃｈｅｓｔｅｒ模型分析了单兵系统的作战效能，然后以此为基础研究了单兵系统的基本功能单元和实现其整体功能的组成结构。     

使用等效偏移角稀疏测量的面阵相机序贯图像几何校正

天基光学相机实际在轨对地观测成像的畸变需通过几何校正抑制。目前主流面阵相机对地观测获得的小尺寸、高帧频序贯图像很难满足传统几何校正方法逐帧解算对单帧图像控制点数量与空域分布的要求且计算量巨大。针对这一问题,提出一种使用等效偏移角稀疏测量的面阵相机序贯观测图像几何校正方法,将逐帧校正参数解算问题转化为时域稀疏测量条件下等效偏移角信号恢复问题,利用等效偏移角信号时频信息可有效降低对单帧图像控制点数量和空域分布要求。通过高分四号卫星面阵相机在轨实测图像数据验证了所提方法的可行性且其能大大降低序贯图像几何校正处理的计算量。     

基于敏感性分析和准稳态假设简化详细反应机理

发展了一套基于敏感性分析和准稳态假设来简化复杂化学动力学机理系统的方法。采用等压均相反应器燃烧模型和详细化学动力学机理计算特定工况下的自燃过程。通过对详细机理计算结果的敏感性分析后删除其中的冗余组分和冗余反应,简化得到基干反应模型。再找出基干机理中反应速率较快,浓度较低的组分假定为稳态组分,使用准稳态假设方法简化得到总包反应模型。最后以甲烷燃烧的GriMech1.2详细机理为例分析得到了简化机理并计算了着火延迟时间,与详细机理所得的结果进行比较验证,得到了较好的结果。     

基于CFD的磁射流抛光去除机理分析

应用计算流体动力学(CFD)方法分析了一种新型精密抛光技术——磁射流抛光的材料去除机理。磁射流抛光中,含有磨料的磁流变液射流被喷嘴出口附近的局部外加纵向磁场磁化,产生准直的硬化射流束来进行相对远距离的精密抛光。介绍了磁射流抛光的原理和实验装置,分析了磁流变液聚束射流的形成,通过一系列定点抛光实验研究了磁射流抛光工艺的材料去除分布特征,利用计算流体动力学的方法分析了垂直冲击和倾斜冲击情况下,磁流变液射流与工件表面相互作用时径向流场功率密度的分布特征。实验结果和仿真计算结果表明:磁流变液射流在工件表面径向扩展流动产生的径向剪切作用导致了材料去除;CFD方法能模拟抛光区去除率的三维分布,因此可以准确地预测抛光区形状。