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211.
212.
与一般计算机系统相比 ,工控单片机系统在电磁兼容方面表现为对电源影响敏感、易形成辐射和串扰通路 ,文章据此提出从电源、总体结构与功率接口等方面提高工控单片机系统电磁兼容性的若干措施 相似文献
213.
温漂和时漂是电子分析天平产生误差的主要原因 ,其自动补偿具有重要意义。本文介绍了电子分析天平的工作原理 ,分析了电子分析天平温漂、时漂的产生机理 ,提出了一系列克服漂移的自动补偿方法 ,给出了传感器、硬件电路和软件等几方面的自动补偿方案 ,实际应用表明这些补偿方法是切实可行的。 相似文献
214.
215.
蔡章生 《海军工程大学学报》1990,(3)
本文把集总参数法用于堆芯、一回路和二回路,导出了主系统对蒸汽发生器给水流量丧失的动态方程组及其解析解,非常适用于运行监督性快速计算。 相似文献
216.
考虑带有齐次线性等式约束的线性模型在设计阵X和约束阵H满足适当条件时,给出了参数的约束LS估计与BLU估计的简洁表达式,较合理地定义了相对于的相对效率e,最后得到了的一个下界。 相似文献
217.
本文介绍了应用单片微型计算机技术的智能化相位测量系统。该系统由软件支持,克服了硬件上的许多缺陷,具有测量精度高、工作频带宽、使用简单等特点。 相似文献
218.
针对系统实用C~3I 需求,重点对分布式数据库、计算机操作系统、网络协议一致性测试、军事专家系统、电磁兼容等关键技术进行了实用研究。文章可对C~3I 系统设计提供参考。 相似文献
219.
流体动压超光滑加工材料去除主要受工件表面流体动压和剪切分布的影响,根据材料去除的理论模型分析了影响材料去除的关键工艺参数。基于流体动力学仿真和具体实验对抛光轮浸没深度、抛光轮转速和抛光轮间隙对流体动压超光滑加工的材料去除速率的影响规律进行了研究。分析结果表明:抛光轮的浸没深度对材料去除速率影响不大;材料去除速率随着抛光轮转速的减小、抛光间隙的增大而减小;考虑实际使用条件,最优抛光轮转速为300 r/min、抛光间隙为25μm、抛光轮浸没深度为(2/3)R。同时对抛光头温度稳定性进行了具体实验测试,其在装置启动后4 h基本达到热平衡,通过试运行预热的方式可有效避免温升变化对抛光间隙的影响。 相似文献
220.