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| CL-20降感处理技术及在CMDB推进剂中的应用 | |
| 引用本文： | 任晓斌,李军强,宋秀铎,刘所恩,武宗凯.CL-20降感处理技术及在CMDB推进剂中的应用[J].兵器装备工程学报,2022(2):151-157. |
| 作者姓名： | 任晓斌 李军强 宋秀铎 刘所恩 武宗凯 |
| 摘 要： | 为促进六硝基六氮杂异伍兹烷(CL-20)在推进剂中的应用,综述了 CL-20降感处理技术及其在改性双基(CM-DB)推进剂中应用的最新进展.结果表明,通过表面包覆降感技术、共晶降感技术和微纳米球形化降感技术均可有效制备出低感CL-20,但为提高低感CL-20的能量释放率,在表面包覆降感技术和共晶降感技术中应尽可能地选取... |
| 关 键 词： | 六硝基六氮杂异伍兹烷 降感 共晶 微纳米球形化 改性双基推进剂 |