| 流变抛光结合HF酸刻蚀提升熔石英元件抗激光损伤性能 |
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| 引用本文： | 万稳,戴一帆,石峰,彭小强. 流变抛光结合HF酸刻蚀提升熔石英元件抗激光损伤性能[J]. 国防科技大学学报, 2015, 37(6) |
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| 作者姓名： | 万稳 戴一帆 石峰 彭小强 |
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| 作者单位： | 国防科学技术大学 机电工程与自动化学院,国防科学技术大学 机电工程与自动化学院,国防科学技术大学 机电工程与自动化学院,国防科学技术大学 机电工程与自动化学院 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目(5127552,91323302) |
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| 摘 要： | 为了提升紫外熔石英元件抗激光损伤性能,针对传统加工方法在加工过程中产生的破碎性缺陷和污染性缺陷,本文提出了使用磁流变抛光+HF刻蚀组合工艺提升紫外熔石英元件抗激光损伤性能的方法。磁流变抛光特有的剪切去除原理能够有效去除传统加工过程产生的破碎性缺陷,同时不产生新的破碎性缺陷。HF酸动态酸刻蚀能够有效减少加工过程中产生金属元素污染。实验结果表明：经过组合工艺处理的熔石英样品,在7J/cm2.3ω激光通量辐照下损伤密度由0.2/mm2降至0.008/mm2,在8J/cm2.3ω激光通量辐照下损伤密度由1/mm2降至0.1/mm2,对紫外熔石英元件损伤性能提升显著。
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| 关 键 词： | 熔石英 磁流变 HF酸刻蚀 缺陷 损伤密度 |
Combined Magnetorheological Finishing with HF Etching for Improving Laser Damage Performance of Fused Silica |
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| Keywords: | fused silica MRF HF acid etching defects damage density |
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