| 磁控溅射制备SmCo薄膜的工艺及磁性研究 |
| |
| 引用本文： | 邱轶,万红,刘吉燕,斯永敏,赵恂.磁控溅射制备SmCo薄膜的工艺及磁性研究[J].国防科技大学学报,2003,25(5):26-30. |
| |
| 作者姓名： | 邱轶 万红 刘吉燕 斯永敏 赵恂 |
| |
| 作者单位： | 国防科技大学航天与材料工程学院,湖南,长沙,410073 |
| |
| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目(59971064) |
| |
| 摘 要： | 用直流磁控溅射方法制备了SmCo薄膜,通过正交设计实验考察了工艺因素对薄膜沉积速率的影响规律。研究结果表明,影响薄膜沉积速率的主要因素是溅射功率,其次为靶基距,在0.5～2.0Pa的压强范围内,Ar气压强的大小对溅射速率的影响很小。X-射线衍射结果表明:制备态的SmCo薄膜为非晶结构,500℃真空热处理后,薄膜中出现少量的微晶SmCo5化合物。磁性能测试表明:制备态SmCo薄膜的矫顽力随薄膜厚度的增加而显著下降;真空热处理过程中,薄膜结构缺陷及成分起伏减少,薄膜的矫顽力和饱和磁场强度显著下降,初始磁导率和饱和磁化强度显著增加。
|
| 关 键 词： | 磁控溅射 SmCo薄膜 工艺参数 磁化 |
| 文章编号： | 1001-2486(2003)05-0026-05 |
| 收稿时间： | 2003/3/25 0:00:00 |
| 修稿时间： | 2003年3月25日 |
Technological and Magnetic Study of SmCo Thin Films Prepared by Magnetron Sputtering |
| |
| QIU Yi,WAN Hong,LIU Jiyan,SI Yongmin and ZHAO Xun.Technological and Magnetic Study of SmCo Thin Films Prepared by Magnetron Sputtering[J].Journal of National University of Defense Technology,2003,25(5):26-30. |
| |
| Authors: | QIU Yi WAN Hong LIU Jiyan SI Yongmin and ZHAO Xun |
| |
| Institution: | College of Aerospace and Materials Engineering, National Univ. of Defense Technology, Changsha 410073, China;College of Aerospace and Materials Engineering, National Univ. of Defense Technology, Changsha 410073, China;College of Aerospace and Materials Engineering, National Univ. of Defense Technology, Changsha 410073, China;College of Aerospace and Materials Engineering, National Univ. of Defense Technology, Changsha 410073, China;College of Aerospace and Materials Engineering, National Univ. of Defense Technology, Changsha 410073, China |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | Magnetron sputtering SmCo thin film technological parameter magnetization |
| 本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录！ |
| 点击此处可从《国防科技大学学报》浏览原始摘要信息 |
| 点击此处可从《国防科技大学学报》下载免费的PDF全文 |
|
