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1.
2.
谭志良 《军械工程学院学报》1994,(4)
本文介绍了静电放电(ESD)对电子装置的危害,分析了半导体器件受ESD影响而失效的机理,及ESD对电子设备形成干扰的途径,介绍并分析了六种ESD模型,即人体模型(HBM)、带电装置模型(CDM)、场感应模型(FIM)、机器模型(MM)、增强型场模型(FEM)或金属体模型(BMM)、电容耦合模型(CCM)。 相似文献
3.
胶粘耐磨涂层的研制及其磨损机理分析 总被引:1,自引:0,他引:1
本文介绍了JNT9O系列涂层的研制过程及计算机辅助涂层配方优化方法,分析了影响胶粘耐磨涂层耐磨性的主要因素,并通过扫描电镜对粘涂层的结构形貌、磨损机理进行了研究,提出了提高涂层性能的途径和见解. 相似文献
4.
各种雷达、声呐,以及其它量测设备对目标的量测不可避免地带有误差,即量测噪声。在舰船作战系统、指火控系统、区域C~3I系统的的情报处理和火控解算方案论证、系统仿真试验、以及模拟训练中,都要求逼真地计算多目标、多传感器的量测噪声。显然,按照常规方法产生的随机数和正态白噪声是远远不能满足需要的。本文着重论述了量测噪声的模拟机理,在对量测噪声进行分类的基础上讨论了多种行之有效的模拟方法,最后作为应用实例,在指出了所采用的周期长、性能优良的多随机数发生器的同时,较详细地阐述了区域C~3I系统仿真试验中多目标、多传感器量测噪声的模拟技术。 相似文献
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6.
对宣贯学习 GB/T 16675.1~16675.2—1996《技术制图简化表示法》过程中的体会、认识、具体作法谈了自己的几点意见,旨在探讨如何深入细致地更好宣贯该标准,以期收到更好的效果。 相似文献
7.
应用计算流体动力学(CFD)方法分析了一种新型精密抛光技术——磁射流抛光的材料去除机理。磁射流抛光中,含有磨料的磁流变液射流被喷嘴出口附近的局部外加纵向磁场磁化,产生准直的硬化射流束来进行相对远距离的精密抛光。介绍了磁射流抛光的原理和实验装置,分析了磁流变液聚束射流的形成,通过一系列定点抛光实验研究了磁射流抛光工艺的材料去除分布特征,利用计算流体动力学的方法分析了垂直冲击和倾斜冲击情况下,磁流变液射流与工件表面相互作用时径向流场功率密度的分布特征。实验结果和仿真计算结果表明:磁流变液射流在工件表面径向扩展流动产生的径向剪切作用导致了材料去除;CFD方法能模拟抛光区去除率的三维分布,因此可以准确地预测抛光区形状。 相似文献
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10.
采用KBH4液相还原法制备了纳米铜添加剂,采用透射电子显微镜对纳米铜添加剂进行了表征,通过摩擦磨损试验机测试了纳米铜添加剂对4种不同粗糙度摩擦表面所表现的抗磨减摩性能,并对不同的磨损表面进行了光学显微镜和能谱分析。结果表明:纳米铜添加剂为分散性能稳定的20nm的球形颗粒;纳米铜添加剂具有良好的抗磨减摩性能,尤其是对于光滑的摩擦表面,与基础油相比,可使摩擦因数降低24%。纳米铜添加剂还具有良好的自修复性能,摩擦过程中,能够在摩擦表面形成一层高弹性低硬度的自修复膜,自修复效果对于光滑的摩擦表面更为显著。 相似文献