渗硫层对网格化激光淬火表面摩擦磨损性能的影响

利用低温离子渗硫技术在CrMoCu合金铸铁网格化激光淬火表面制备了渗硫层,分析了其形貌组成与结构,考察了渗硫激光复合表面的摩擦学性能。结果表明:渗硫层表面疏松多孔,在淬火区域硫化物颗粒细小,结构致密,其相组成主要为FeS;在干摩擦条件下,渗硫层能降低网格化激光淬火表面的摩擦因数,提高其耐磨性能,其主要原因是硫化物及摩擦化学反应生成的氧化物能在摩擦表面形成边界润滑膜,抑制了磨粒磨损和粘着磨损,有效减弱了网格化激光淬火表面"摩擦台阶"效应。     

一种基于离心雾化的新型热喷涂技术

研究开发了一种新型的热喷涂技术——离心雾化转移弧等离子喷涂技术(CAPTAS),阐述了该技术工作原理、设备以及熔融粒子的离心雾化机理。观察了采用该技术所制备的涂层微观组织结构,通过能谱仪对该涂层的成分进行了分析, 并与传统的电弧喷涂涂层进行了比较。结果表明,采用CAPTAS技术制备的涂层具有和传统电弧喷涂涂层类似的扁平化层状结构,但粒子大、变形小、氧化物含量低。     

活性屏离子渗硫层在40#油润滑条件下的摩擦学性能

应用活性屏离子渗硫技术,在CrMoCu合金铸铁表面制备出以FeS相为主的渗硫层。实验表明,在40#油润滑条件下,活性屏离子渗硫表面的摩擦因数比未渗表面大约降低了13%,与渗硫表面相近;体积磨损量比未渗表面减少了30%左右,与渗硫表面相似。由于活性屏离子渗硫层的主要成分为密排六方晶体结构的FeS,且其结构疏松多孔易于储存润滑油,因此具有良好的减摩、耐磨性能。     

离子迁移技术的发展及应用

离子迁移法属常压离子化检测技术,是毒剂侦察的重要研究方向和环境监测的重要技术途径之一。本文综述了分子电离、离子分离和鉴定的原理,综述了离子迁移技术的发展及其在毒剂和环境监测中的应用。     

引信震动产生黑色粉沫分析

本文用固体物理理论,从金属的微观结构、镀锡晶粒的抗压强度研究了某引信震动后,零件粘附着黑色粉沫(微粒)产生的机理。     

Co3O4/CeO2材料的制备及低温氧化CO反应研究

采用沉淀氧化法制备了Co3O4/CeO2催化剂,运用XRD,BET,TPR(程序升温还原)表征手段,考察了不同钴铈比及焙烧温度对钴铈复合氧化物物理及化学性能的影响,分别在干、湿条件下进行了一氧化碳氧化反应研究.结果表明,铈的加入使Co3O4的粒径变小,经723 K温度焙烧制得的钴铈比为91的复合氧化物中Co3O4的平均粒径为9.5 nm,BET比表面积为119.8 m2/g.干燥条件下,Co3O4的活性优于钴铈复合氧化物,而当反应气中存在湿气时,适当比例的铈的添加起到了抑制湿气的作用,较纯Co3O4活性更好.     

活性屏离子渗硫层的制备及形貌结构研究

对7A52铝合金及45钢表面活性屏离子渗硫层的制备及形貌结构进行了研究.通过工装使7A52铝合金及45钢试样在高频脉冲等离子扩渗炉中处于零电位,并置于接阴极的不锈钢网状活性屏中.在离子渗硫过程中,利用不锈钢网状活性屏上形成的硫化物溅射下来,沉积到7A52铝合金及45钢试样表面,从而形成离子渗硫层.SEM、EDS及XRD检测分析结果表明,活性屏离子渗硫技术不仅可以获得传统离子渗硫技术一样的处理效果,而且还细化了硫化物颗粒尺寸,较好地解决了传统离子渗硫技术出现的边缘效应、工件打弧和空心阴极效应等问题.活性屏离子渗硫技术不仅可在钢铁材料上制备离子渗硫层,还可在非钢铁材料上制备离子渗硫层,为解决非钢铁材料的减摩耐磨问题提供了一条新的途径.     

MOS随机存取存貯器的应用

近年来,金属——氧化物——半导体集成电路有了很大的发展,由于它具有制造工艺简单、集成度高、功耗小、温度性能好等优点。尽管它目前在国内还处于幼年时期,但已占有显著的地位,正日益广泛地被应用到大型、中型、微型高速电子计算机和程序自控设备的随机存取存貯器。研究所多功组和兄弟单位志同们一起,以毛主席的《实践论》为武器,通过对北京大     

一类C~3I系统的数据流航迹处理技术

本文从工程应用角度出发,介绍了一类Ｃ３Ｉ系统的一种实时航迹处理技术——数据流点航迹处理技术。对多目标多传感器条件下目标航迹辨识一次航迹归一及二次航迹的再处理等问题都作了较详细的讨论。     

一种新型内孔热喷涂技术及涂层性能研究

介绍了一种新型的内孔热喷涂技术———离心雾化等离子喷涂技术,并阐述了该技术的工作原理和工作过程。通过试验制取了3Cr13涂层和铝涂层,使用扫描电镜、能谱仪和光学显微镜等仪器设备对2种涂层的表面和截面进行观察分析,结果表明,通过该技术制取的涂层具有和传统电弧喷涂层类似的组织结构,并具有氧化物含量低,喷涂粒子大等特点。