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71.
所谓纳米技术,就是以0.1——100纳米(1纳米等于10亿分之一米)尺度的原子分子为研究对象,通过操纵原子、原子团或分子、分子团,使其重新排列组合,形成新的物质,制造出具有新功能的材料或器件的技术。纳米技术是世纪之交异军突起的新兴技术,其基本特征是以精确完善的控制和准确入微的离散方式。快速地排布分子或原子结构,按照人的意向操纵原子、分子团、制造出具有特定功能的设备,从而使物质加工处理技术达到前所未有的水平。纳米技术的涵盖面十分广泛,包括纳米电子技术、纳米材料技术、纳米机  相似文献   
72.
随着“纳米海军”神秘仿生武器系列的大量装备,从人员到建制、从指挥到后勤、从战术到战略,都将对传统的海军模式带来新的挑战。  相似文献   
73.
本刊讯3月26日,纳米分散技术应用交流会在北京应物会议中心举行。首都科技条件平台下属中国电子科技集团、清华大学、北京理工大学、北京师范大学4家研发实验服务基地,中国电子科技集团公司第45研究所、第46研究所、中船重工703所、中航工业621所、中国医疗保健国际交流促进会、航天材料及工艺研究所、清华科技园启迪孵化器、中国和平利用军工技术协会、《中国军转民》杂志社等13家单位,共计40余人参加,军民融合领域中心执行主任吕鲁江主持会议。  相似文献   
74.
利用建立的饱和多孔介质中热弹性波的弥散方程,研究了平面p波在自由界面上的反射问题,获得反射系数的表达式。通过算例分析了饱和多孔弹性介质的热膨胀系数对p1波传播速度的影响,进而考虑界面透水与不透水两种工况,讨论了不同频率、入射角和表面排水条件对各反射波幅值的影响特性。结果表明:热物性参数对波的传播有一定的影响,频率、入射角和表面排水条件对两类压缩波、剪切波和热波的反射幅值的影响较大。  相似文献   
75.
理论分析与实验验证表明,纳米金刚石磨料磁流变抛光材料去除机理是塑性剪切去除.在KDMRF-1000F磁流变抛光机床上进行工艺实验,研究抛光轮与工件表面的间隙、抛光轮转速、磁场强度对峰值去除效率和表面粗糙度的影响.工艺实验表明,去除函数具有良好的稳定性和重复性,2.5h以内峰值去除效率稳定在±0.3%以内,体积去除效率稳定在±0.5%以内.直径202mm(有效口径95%)的HIP SiC平面镜采用子孔径拼接测量方法,经过磁流变粗抛(30h)和精抛(9h)后,面形误差PV值0.13μm,RMS值0.012μm,表面粗糙度RMS值2.439nm.  相似文献   
76.
利用静电纺丝技术制备了聚丙烯腈(PAN)纳米纤维,考察了PAN溶液质量浓度、纺丝电压和挤出速率等工艺参数对PAN纳米纤维制备及其微观形貌的影响,制备了直径可控的PAN纳米纤维,并将其对纱线进行包覆。结果表明:PAN溶液的质量浓度和挤出速率对纤维成形和直径的影响较大,随着PAN溶液质量浓度升高,溶液可纺性增加;较低的挤出速度能纺出直径细而均匀的纳米纤维;纤维直径随着纺丝电压的增加而减小。PAN纳米纤维与纱线能较好地复合,为纳米纤维的应用、纱线改性和纤维增强增韧复合材料界面设计提供了新方法和技术支撑。  相似文献   
77.
为进一步研究半导体纳米材料的物理特性,用真空沉积的方法在SiO2基片上制备了纳米InSb颗粒膜。用原子力显微镜扫描样品表面的分析显示,纳米InSb颗粒均匀地分布在SiO2基片表面。实验结果表明通过改变镀膜时间,可以得到具有不同颗粒尺寸的InSb纳米颗粒。  相似文献   
78.
采用球磨法与热压烧结工艺制备了添加w(n-SiO2)=1.0%的铜基纳米复合材料。通过球盘式摩擦磨损试验机测试了复合材料的摩擦磨损性能,采用排水法和场发射扫描电镜(FSEM)研究了复合材料的致密度、显微组织和磨损形貌。结果表明:球磨可提高复合材料的致密度,改善n-SiO2在铜基体中的分散均匀性;随球磨时间的增加,复合材料的动摩擦因数和磨损量先减小后增加,球磨10 h复合材料具有较低的摩擦因数和磨损量,磨损机理主要为磨料磨损。  相似文献   
79.
摩擦条件对纳米铜润滑添加剂减摩性能影响的研究   总被引:3,自引:1,他引:2  
研究了摩擦速度、载荷和摩擦表面处理方式等摩擦条件,对纳米铜润滑添加剂减摩性能的影响,发现摩擦速度较高时,载荷增加使摩擦因数明显降低;在低载荷时摩擦速度的减小,使摩擦因数降低了17%,载荷增大后摩擦速度的变化,对摩擦因数的影响减小.摩擦表面抛光处理,使摩擦因数降低为磨削处理时的74%.  相似文献   
80.
采用电刷镀法制备了Cu/Ni多层膜,对多层膜的摩擦学性能进行了研究。结果表明,电刷镀法制备Cu/Ni多层膜镀层平整、均匀致密、晶粒细小,界面清晰;多层膜的摩擦磨损性能直接由单层膜厚决定:随着单层膜厚的减小,多层膜的摩擦系数减小,磨损形式由磨料磨损逐渐转变为粘着磨损;多层膜的磨损量随单层膜厚的减小而减小,当单层膜厚减小至纳米尺度时,存在一磨损量的最小值;电刷镀 Cu/Ni多层膜的临界单层膜厚约为20 nm。  相似文献   
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