IBAD氮化钛中N/Ti对膜层性能影响研究

研究了离子束辅助沉积(IBAD)制备氮化钛(TiN)重要参数氮钛到达比(N/Ti)对膜层性能的影响,并且采用俄歇谱分析(AES)、光电子谱分析(XPS)、X射线衍射分析(XRD)对膜层进行了相组成与成分分析,摸索了N/Ti对膜层的影响规律.     

离子束强化膜层在印制板刀具上的应用研究

介绍了几种离子束表面强化技术,分析了强化膜层的特点,并对膜层结构及成份等进行了研究,根据优化的工艺对印制板钻头和铣刀进行了强化,取得了良好的应用效果.