基于CFD的磁射流抛光去除机理分析

应用计算流体动力学(CFD)方法分析了一种新型精密抛光技术——磁射流抛光的材料去除机理。磁射流抛光中,含有磨料的磁流变液射流被喷嘴出口附近的局部外加纵向磁场磁化,产生准直的硬化射流束来进行相对远距离的精密抛光。介绍了磁射流抛光的原理和实验装置,分析了磁流变液聚束射流的形成,通过一系列定点抛光实验研究了磁射流抛光工艺的材料去除分布特征,利用计算流体动力学的方法分析了垂直冲击和倾斜冲击情况下,磁流变液射流与工件表面相互作用时径向流场功率密度的分布特征。实验结果和仿真计算结果表明:磁流变液射流在工件表面径向扩展流动产生的径向剪切作用导致了材料去除;CFD方法能模拟抛光区去除率的三维分布,因此可以准确地预测抛光区形状。     

微波铁氧体基片精密研抛技术研究

针对微波铁氧体基片的功能要求和材料特性,基于坐标变换法对平行式研磨、抛光加工区域的相对运动轨迹进行仿真研究,为合理选择工艺参数提供理论依据;通过正交化实验分析各种工艺参数对研磨效率的影响规律;在此基础上,采用优化组合的工艺参数进行微波铁氧体基片平行式研磨和抛光加工,技术指标均达到或超过了使用要求。     

7B04铝合金孔壁超声振动抛光抗疲劳性能分析

针对7B04铝合金孔结构机加质量差、易腐蚀的问题,采用超声振动抛光技术,对原始机加孔和腐蚀孔分别进行了抛光处理,旨在改善和提高7B04铝合金原始机加孔和腐蚀孔的表面完整性。从孔壁处理前后的表面形貌和粗糙度变化情况可知:超声振动抛光可有效去除表面加工刀痕,去除腐蚀产物,同时表面粗糙度降低了43%以上,孔壁局部应力集中系数降低了24%以上,这有利于提高孔的抗疲劳性能。超声振动抛光技术为飞机孔结构的加工和维修提供了新的思路和方法。     

人防工事火灾应急空气补给技术预研

美国防部民防准备局早期对二战时火灾的详尽研究表明，缺氧、CO中毒是导致工事内人员死亡的主要原因之一．人防工事现装备的氧气再生装置在火灾下使用存在诸多问题，因此，如何在清除燃烧有害物的同时为被困人员供氧一直是人防工事亟待解决的难题．对国内外各领域的空气补给技术进行了资料调研，结合本课题的实际，从几个技术方案中优选了变压吸附技术，建立了实验装置。实验研究结果表明，约含0．49jlc0的空气进入本实验装置后浓度降至1．2mg／m^3以下，约含17．8%CO2的空气进入本实验装置后浓度降至正常空气含量以下，含氧13．1%的空气进入本实验装置后浓度最高升至90．5%(2L／min)。最低58．4%(5L／min)．     

一切为了打赢——聚银公司反液氯泄漏事故应急演练纪实

“调度室,我是盐酸电解厂控制室,电解厂液氯贮槽发生泄漏,我们正组织人力紧急处理……。”9月16日上午10时整,日用液氯达70余吨的甘肃银光聚银化工有限公司(简称聚银公司)模拟液氯贮槽泄漏反事故应急演练全面拉开……聚银公司调度室值班人员接到盐酸电解厂控制室盘面操作人员的事故报警后,随即启动事故声、光警报装置,还利用生产区通讯广播,向各生产单位发出事故警报,同时向聚银公司领导汇报事故情况。得到生产区发生液氯泄漏事故的消息后,聚银公司总经理马建军与生产指挥部有关负责人迅速赶到调度室,坐阵指挥事故抢救与生产自救工作,并在调…     

马关县人武部认真学习贯彻《国防教育法》

今年8月1日,在会泽县者海镇隆重庆祝中国人民解放军建军74周年暨镇武装部挂牌仪式,矿山凯鸿锌业有限公司经理张加庆和会泽东兴实业有限公司党支部书记兼电解锌厂厂长张明分别向者海镇武装部各捐献人民币10000元,以表达对该镇国防后备力量建设的关爱之情。     

热压多晶氟化镁的磁流变抛光研究

热压多晶氟化镁是一种被广泛应用的红外光学材料.磁流变抛光因其抛光效率高、磨头无磨损、可实现确定性加工等优点而日益成为倍受瞩目的超精密光整加工技术.在利用传统抛光方法得到热压多晶氟化镁的抛光特性的基础上配制了适用于该材料的磁流变抛光液.通过抛光实验证明,与传统抛光方法相比,采用磁流变抛光方法对热压多晶氟化镁进行抛光,可以得到较好抛光表面质量,并且抛光的效率也大大提高.     

离子束抛光加工矩形离轴非球面镜

采用一种简单的方法使用线性三轴离子束系统实现了矩形离轴非球面镜的抛光加工.根据离子束材料去除机理,分析了去除函数的法向材料去除特性,并且以去除函数束径、峰值去除速率和体积去除速率为指标,评价了入射角的小扰动鲁棒性.利用相关的分析和实验结果,对矩形离轴镜的抛光加工进行了合理的简化,并在自行研制的离子束抛光机床上进行了修形...     

纳米金刚石磨料磁流变抛光材料去除机理与工艺研究

理论分析与实验验证表明,纳米金刚石磨料磁流变抛光材料去除机理是塑性剪切去除.在KDMRF-1000F磁流变抛光机床上进行工艺实验,研究抛光轮与工件表面的间隙、抛光轮转速、磁场强度对峰值去除效率和表面粗糙度的影响.工艺实验表明,去除函数具有良好的稳定性和重复性,2.5h以内峰值去除效率稳定在±0.3%以内,体积去除效率稳定在±0.5%以内.直径202mm(有效口径95%)的HIP SiC平面镜采用子孔径拼接测量方法,经过磁流变粗抛(30h)和精抛(9h)后,面形误差PV值0.13μm,RMS值0.012μm,表面粗糙度RMS值2.439nm.     

回转对称非球面光学零件磁流变成形抛光的驻留时间算法

介绍了一种基于代数算法的回转对称非球面计算机控制表面成形的驻留时间算法。该算法将驻留时间转化为工件自转的整数圈数,并且将抛光模对工件的材料去除效率体现到材料去除矩阵上进行计算。利用非负最小二乘法求解驻留时间向量。最后,利用该算法在自研的磁流变抛光实验装置上对一回转对称光学零件进行3次迭代加工,使其面形精度从8μm提高到0.5μm以内。