化学气相沉积碳化硅超光滑抛光机理与表面粗糙度影响因素

为实现化学气相沉积碳化硅(CVD SiC)的超光滑抛光,采用纳米划痕试验研究了化学气相沉积碳化硅脆塑转变的临界载荷,根据单颗磨粒受力对其抛光机理进行了分析,并从材料特性、工艺参数以及抛光液pH值三个方面对其表面粗糙度影响因素进行了系统的试验研究.研究结果表明:化学气相沉积碳化硅的稳定抛光过程是磨粒对碳化硅表面的塑性域划痕过程;CVD SiC的晶粒不均匀与表面高点会降低晟终所能达到的表面质量;表面粗糙度在一定范围内随磨粒粒度增加呈近似线性增长,随抛光模硬度的增加而增长;抛光压强对表面粗糙度的影响规律与抛光模的变形行为相关,当抛光模处于弹性或弹塑性变形阶段时,表面粗糙度随抛光压强的增加呈小幅增长,而当抛光模包含塑性变形之后,表面粗糙度基本与抛光压强无关;此外,抛光速度和抛光液pH值对表面粗糙度的影响不大.研究结论为CVD SiC超光滑抛光的工艺参数优化选择提供了定量的试验依据.     

铁谱技术及其在机械监测诊断应用的机理研究

简要分析了磨粒监测技术的几种方法,并对各种监测技术的原理、特点、适用范围进行了评述和比较。在文中系统论述了铁谱分析技术的基本原理及在磨粒监测分析中的重要意义;是应用磁场将润滑剂中磨损颗粒进行分类并计数的一种技术,对铁谱片上磨损碎片的观测能够诊断引起非正常磨损的起因和机械部件磨损的真实情况,常用来检测非正常磨损、磨损方式和磨损的程度,为预测磨损部件的使用寿命提供基本信息,从而使油液的监测分析结果更为全面和准确。     

基于类间最大方差法的铁谱磨粒彩色图像自动分割

在磨粒图像RGB彩色空间,选择其3个正交彩色特征,应用类间最大方差法对其分割,依据F isher判别函数选择其最佳特征与最佳阈值,实现了磨粒彩色图像的分割。大量磨粒图像分割实践证明,该分割方法具有分割精度较高、计算速度快、自适应性强等特点,是铁谱磨粒彩色图像自动分割较理想方法之一。     

基于CFD的磁射流抛光去除机理分析

应用计算流体动力学(CFD)方法分析了一种新型精密抛光技术——磁射流抛光的材料去除机理。磁射流抛光中,含有磨料的磁流变液射流被喷嘴出口附近的局部外加纵向磁场磁化,产生准直的硬化射流束来进行相对远距离的精密抛光。介绍了磁射流抛光的原理和实验装置,分析了磁流变液聚束射流的形成,通过一系列定点抛光实验研究了磁射流抛光工艺的材料去除分布特征,利用计算流体动力学的方法分析了垂直冲击和倾斜冲击情况下,磁流变液射流与工件表面相互作用时径向流场功率密度的分布特征。实验结果和仿真计算结果表明:磁流变液射流在工件表面径向扩展流动产生的径向剪切作用导致了材料去除;CFD方法能模拟抛光区去除率的三维分布,因此可以准确地预测抛光区形状。     

基于核主成分分析的铁谱磨粒特征提取方法研究

针对铁谱分析的磨粒识别过程中存在原始磨粒特征描述指标参数多、非线性突出的问题,提出基于核主成分分析的磨粒特征提取方法,介绍该方法的原理与算法。结合某柴油发动机故障检测与分析系统中铁谱磨粒自动识别的应用实例,并与传统主成份分析方法进行对比分析,结果表明该方法在进行样本非线性特征参数指标综合以及特征维数压缩方面具有可行性和有效性。     

磨粒监测技术及其应用

在机械零件的失效形式中,磨损故障占７０％以上,油液中的磨粒携带机器运转状态的大量信息,磨粒监测技术得到了迅速发展。本文对各种磨粒监测技术的原理、特点和适应范围进行了评述,尤其对光谱和铁谱技术作了重点介绍。     

光学材料抛光亚表面损伤检测及材料去除机理

抛光后光学元件仍然存在亚表面损伤,它降低光学元件的抗激光损伤能力和光学性能,为去除抛光亚表面损伤以提升光学元件使用性能,需要对其进行准确检测和表征.首先,采用恒定化学蚀刻速率法和二次离子质谱法分别检测水解层深度和抛光杂质的嵌入深度.然后,使用原子力显微镜检测亚表面塑性划痕的几何尺寸.通过分析表面粗糙度沿深度的演变规律,研究浅表面流动层、水解层和亚表面塑性划痕间的依存关系.最后,建立抛光亚表面损伤模型,并在此基础上探讨抛光材料去除机理.研究表明:水解层内包括浅表面流动层、塑性划痕和抛光过程嵌入的抛光杂质;石英玻璃水解层深度介于76和105nm之间;抛光过程是水解反应、机械去除和塑性流动共同作用的结果.     

机械法超细粉碎技术

固体物料经超细粉碎,可以改善其物理化学性质,提高应用性能．机械法超细粉碎技术成熟,易实现工业化,而且生产能力大,成本低．介绍了机械法超细粉碎设备,重点介绍了气流粉碎机,包括工作原理、特点,机计、注意事项,在农药、食品工业的典型应用,并对其在国防工业的应用作了展望．     

纳米二氧化硅对苯丙乳液涂层力学性能的影响

以正硅酸乙酯(TEOS)为硅源,采用St?ber法制备了二氧化硅粉体,采用硅烷偶联剂对其表面修饰后得到纳米二氧化硅。采用机械搅拌辅助超声分散法制备了纳米二氧化硅-苯丙复合乳液涂层,分别考察了纳米二氧化硅质量分数为0,1%,2%,3%时涂层的微观形貌、显微硬度、附着力、抗磨性、抗划伤性和抗拉强度。结果表明,纳米二氧化硅的质量分数对苯丙乳液涂层的主要力学性能具有显著影响。纳米二氧化硅质量分数为2%时,涂层的主要力学性能相对较好,此时涂层的附着力和抗拉强度分别为8.45,15 MPa,与未添加纳米二氧化硅的苯丙乳液清漆涂层相比提高了12.82%和140.77%,而涂层1 000 r磨损质量损失率降低29%。     

活性炭纤维的制备及在核生化防护服中的应用

介绍了活性炭纤维的孔隙分布、特性、制备方法及活性炭纤维在核生化防护服上的应用；介绍了国内核生化防护服用活性炭纤维复合织物的研究进展。     

铜铝导线搭接处铜导线形貌和成分分析

选用单芯聚氯乙烯绝缘铜导线和铝导线为实验材料并模拟火场条件，制备铜、铝导线搭接形成的一次短路痕迹、二次短路痕迹、火烧痕迹、过负荷痕迹和接触不良痕迹，为识别和分析铜、铝导线搭接痕迹并客观地认定火灾原因提供参考。     

关于纯铜的几种硬度值相互关系的初步探讨

为了解决铜质小零件和异形件的硬度检验问题,制备了70余件纯铜试样,对比检测了HB、HRF、HR15T值,对纯铜的布氏、洛氏硬度之间的关系进行了初步的探讨,为制定纯铜零件的硬度值换算标准积累了部分数据。并将得出初步的硬度值换算表试用于生产,提高了产品质量。     

铜导线过载残留物表面形貌分析

利用火灾痕迹物证综合实验台,制备铜导线在不同过载电流作用下的残留物,用数码相机、扫描电子显微镜观察、分析导线的表面形貌。结果表明：随着过载电流的增大,绝缘层逐渐变软、膨胀、起泡、炭化,并与芯线脱离;芯线表面氧化程度加重,沟槽状的加工划痕逐渐消失,并出现金属熔化流淌痕迹。因此,利用数码相机、扫描电子显微镜观察、分析铜导线表面的形貌特征,可以鉴别其是否过载以及过载的程度。     

硫化物对石油产品铜片腐蚀影响

讨论了不同硫化物对石油产品铜片腐蚀的影响,结合俄歇电子能谱分析结果,讨论了不同腐蚀级别铜片上硫含量的差异,试验结果表明,腐蚀级别高的铜片上硫含量高,这说明石油产品中的硫化物是形成铜片腐蚀的主要影响因素。     

复铜与铜导线的高频电磁性能比较

本文用有限元法计算复铜导线和铜导线内部的电磁场分布,比较两种导线的电磁场及其传输参数,最后得出结论——在高频电路中复铜导线可以取代铜导线.     

铜片腐蚀试验结果评价的数字图像处理方法

传统铜片腐蚀结果评定方法存在着一定的局限性与不足,基于数字图像处理的HIS彩色模型,开发了铜片腐蚀试验结果评价软件。评价结果表明,两种试验结果评价方法有很好的一致性,该方法解决了传统试验结果评价中存在的一些问题。     

纳米SiO2颗粒增强铜基复合材料性能研究

以纳米SiO2颗粒为增强体,采用粉末冶金法制备铜基纳米复合材料.考察不同质量分数的纳米颗粒对复合材料密度、硬度以及摩擦磨损性能的影响.结果表明纳米SiO2颗粒的加入,使铜基体的硬度和摩擦磨损性能都得到了明显提高;但随着纳米SiO2质量分数的增加,复合材料的密度和硬度均呈下降趋势;当纳米SiO2质量分数为0.3 %时,复合材料的减摩耐磨性最好.     

复铜导线传输性能的初步探讨

本文对复铜导线的导电性能进行了初步探讨,计算出复铜导线的直流电导率和交流电阻、电感等传输参数以及它们与铜层厚度的相互关系,为进一步对复铜导线的研制和开发提供理论依据.     

通信用复铜导线的开发研究

本文介绍了设备研制、工艺研究、镀液性能及工化生产情况.对φ1.0mm铜包钢裸线及SYKV—75—5同轴电缆(铜色钢内导体)的性能进行了测试,测试结果全部合格.     

火焰原子吸收光谱法测定铝合金中锌镁铜铁

测定铝合金中锌、镁、铜、铁等元素含量的方法很多,湿法分析由于操作繁琐,时间冗长等缺点,现已应用不多,本法用火焰原子光谱法测定铝合金中锌、镁、铜、铁等元素,方法简便、快速、准确、干扰较少,精密度高。已应用于我公司对LC4、ZL401等铝合金中各元素的分析。